Параметры массива

Выбрать количество элементов, частоту работы и азимут и угол места для управления основным лучом массива.

N = 11;  
fc = 28e9;
az = 30;
el = 20;

Поиск фазовых сдвигов для управления азимутом

Создайте линейную матрицу на требуемой частоте. Элементом по умолчанию является диполь. Найдите фазовые сдвиги, которые необходимо применить к каждому элементу линейной матрицы для управления главным лучом в азимутальном направлении. При этом расстояние разделения выбирают равным половине длины волны для обеспечения отсутствия лепестков решетки.

l = design(linearArray,fc);
elem = l.Element;
elem.Tilt = 90;
l.NumElements = N;
figure
show(l)

ps_az = phaseShift(l,fc,[az;0]);

Поиск фазовых сдвигов для управления отметкой

Вычислите фазовые сдвиги для рулевого управления на высоте. Для этого мы изменяем геометрию нашего начального линейного массива для конфигурации эшелона по оси z.

elem.Tilt = 90;
elem.TiltAxis = [0 1 0];
l.Tilt = 90;
l.TiltAxis = [0 1 0];
l.ElementSpacing = 1.05*(elem.Length) ;
figure
show(l)

ps_el = phaseShift(l,fc,[0;el]);

Создание субчипов

Создайте прямоугольную матрицу N x N, состоящую из N, 1 X N линейных матриц, расположенных вдоль положительного и отрицательного z-направлений.

l.Tilt = 0;
elem.Tilt = 0;
l.PhaseShift = ps_az;
c = conformalArray;
zposn = fliplr((-N+1)/2:1:(N-1)/2);
for i = 1:N
   c.Element{i} = l;
   c.ElementPosition(i,:) = [0,0,zposn(i)*l.ElementSpacing];
end
figure
show(c)

Назначение фазовых сдвигов и шаблона печати

Назначение фазовых сдвигов уровня подматрицы и шаблона вычисления

c.PhaseShift = ps_el;
figure
pattern(c,fc);

figure
patternElevation(c,fc,az);

Обратите внимание, что фактическое расположение пика отличается от теоретического, вычисленного из-за взаимного соединения.

Массив с большой отражательной подложкой

Использование установленной антенной возможности позволяет осуществить первоначальный приблизительный анализ антенной решетки путем включения в ее окрестности большой конструкции. В этом примере представлен STL-файл большого металлического отражателя, расположенного на расстоянии четверти длины волны от матрицы. Анализ обрабатывает массив с использованием подхода полноволнового метода моментов (MoM), а большой отражатель обрабатывается с помощью аппроксимации физической оптики (PO).

lambda = physconst('lightspeed')/fc;
ref_offset = lambda/4;
p = platform;
p.FileName = 'GroundPlane.stl';
p.Units = 'm';
p.Tilt = 90;
f = installedAntenna;
f.Platform = p;
f.Element = c.Element;
f.ElementPosition = c.ElementPosition;
f.ElementPosition(:,2) = ref_offset;
f.FeedPhase = ps_el;
figure
show(f)

Приблизительный массив массива

figure
pattern(f,fc)